G10
GSEM-Ion Sputter Coater G10
真空腔室:Φ140mm(D) x 100mm(H)
靶材尺寸:Φ50mm(D) Au / Pt
鍍金機尺寸:380(W)x240(D)x250(H)mm, 11kg
靶材尺寸:Φ50mm(D) Au / Pt
鍍金機尺寸:380(W)x240(D)x250(H)mm, 11kg
◆ 一次點擊，自動形成薄膜
◆ 快速簡單的全自動鍍金機
◆ 從開始到噴金，所有程序在2分鐘內完成
◆ 設置鍍金條件：3種設定（20、40、60/秒）
◆可以一次裝載直徑Φ14㎜的7個樣品
◆ 外形設計簡潔小巧，安裝空間最小化
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Types of Sputtering |
Diode discharge 3th magnetron type |
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Working Vacuum |
1.0 to 2.0x10-1 torr |
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Vacuum times |
About 2 minutes |
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Ion Current |
38 mA |
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Target Material |
Au or Pt |
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Chamber Size |
Φ140mm(D) x 100mm(H) |
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Target Size |
Φ50mm(D) |
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Stage (W/D) |
Φ85mm(D) x 30mm(H) |
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Sputter Time |
LOW(20sec), MIDIUM(40sec), HIGH(60sec) /3steps |
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Vacuum Pump |
30L/min, Rotary Pump |
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Dimension |
Main : 380(W)x240(D)x250(H)mm, 11kg
Pump : 338(W)x138(D)x244(H)mm, 10.4kg
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Power |
Main : 110~220VAC ±10%, 50~60Hz
Pump : 220VAC ±10%(only)
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