G20
GSEM-Ion Sputter CoaterG20
7英寸觸控式螢幕
真空腔室:Φ140mm(D) x 100mm(H)
靶材尺寸:Φ50mm(D) Au / Pt
鍍金機尺寸:380(W)x240(D)x250(H)mm, 10kg
真空腔室:Φ140mm(D) x 100mm(H)
靶材尺寸:Φ50mm(D) Au / Pt
鍍金機尺寸:380(W)x240(D)x250(H)mm, 10kg
7英寸觸控式螢幕設計，操作簡單
只需點擊一次 真空→自動鍍金 → 鍍金完成
Library功能可以儲存10個常用鍍金條件 可以一次裝載7個Φ14㎜的腔室 1 to 10mA低電壓設計,
防止鍍金時對樣品的損傷 外形設計簡潔小巧, 安裝空間最小化
通過點Start鍵機械泵自動開始抽真空工作。(抽真空時間約1分鐘) 到達設定的真空度，按照設置的鍍金厚度開始工作〪 鍍金完成後5秒左右，可以打開樣品倉上蓋，取出樣品〪
| Vacuum Level |
2.0 x 10-1 Torr (Low vacuum) |
| Sputtering Time |
1 to 600sec (1sec/steps) |
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Vacuum Pump |
100L/min, Rotary Pump |
| Ion Current | 1 to 10mA (1mA/steps) |
| Target Material | Au or Pt |
| Chamber Size | Φ140mm(D)x 100mm(H) |
| Sample Stage | Φ50mm(D) x 25mm(H) |
| Target Size | Φ50mm(D) |
| Power | 110~220VAC ±10%, 50/60Hz |
| Power Consumption | 400W |
| Dimension |
Main : 380(W)x240(D)x250(H)mm, 10kg
Pump : 454(W)x170(D)x240(H)mm, 23kg
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