• Ion Sputter CoaterG20
G20

Ion Sputter CoaterG20

在無導電性的樣品及導電性較弱的樣品的表面上生成等離子體而形成金屬薄膜的設備,
並且是用於電子顯微鏡分析時必須需要的前處理設備。
靶材料主要由黃金和白金製成,並且可以預定的厚度鍍金在樣品的表面上。

   7英寸觸控式螢幕設計,操作簡單

  只需點擊一次 真空→自動鍍金 → 鍍金完成

   Library功能可以儲存10個常用鍍金條件

   可以一次裝載7個Φ14㎜的腔室

   1 to 10mA低電壓設計, 防止鍍金時對樣品的損傷

   外形設計簡潔小巧, 安裝空間最小化


  通過點Start鍵機械泵自動開始抽真空工作〪  (抽真空時間約1分鐘)

  到達設定的真空度,按照設置的鍍金厚度開始工作〪

  鍍金完成後5秒左右,可以打開樣品倉上蓋,取出樣品〪

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