SEM（掃描電子顯微鏡）高分辨率的電子顯微技術，

可以用於分析口罩材料的結構、組成及微觀特性。

此篇文章介紹 SEM 分析口罩的幾個常見應用與流程說明

分析目的

1. 纖維結構觀察
• 觀察口罩材料中的纖維排列方式及直徑大小（如熔噴布、無紡布）。
• 確認纖維孔隙率是否符合過濾要求。
2. 表面形貌檢測
• 確認口罩表面的光滑度、均勻性及缺陷（如孔洞或破損）。
3. 污染物顆粒分析
• 觀察口罩使用前後的表面，檢測捕捉的顆粒物、灰塵或微生物殘留。
4. 材質鑑定
• 配合 EDS（能量散射光譜儀）分析，確定材料的化學成分，如纖維是否含有特定的聚合物或添加劑。

SEM 分析流程

1. 樣品準備
• 切割樣品：將口罩裁剪成適合 SEM 尺寸的小片段（約 1cm²）。
• 固定樣品：使用導電膠將樣品固定在樣品座上。
• 導電處理：如果樣品為非導電性材料（如聚合物），需進行金屬鍍膜（通常為金或鉑）。
2. 設備設置
• 設定適當的加速電壓（通常 5-20 kV）。
• 調整工作距離和放大倍率（通常放大 500 倍至 5000 倍）。
3. 觀察與拍攝
• 觀察纖維排列及表面細節，記錄特徵圖像。
• 若需要化學成分分析，啟用 EDS，掃描區域內的元素分布。
4. 結果分析
• 分析纖維的尺寸分布、孔隙結構及表面形貌特徵。
• 確認過濾材料是否符合設計要求，或評估使用後的損耗情況。

SEM 分析在口罩檢測中的應用價值

• 生產監控：確保口罩纖維的品質穩定性。
• 性能驗證：檢測口罩的微觀結構是否達到過濾效率要求。
• 研究與開發：評估新型材料的微觀特性及其對過濾性能的影響。